等離子清洗設(shè)備輝光放電電位分布和光區(qū)分布有什么特征嗎?
文章導(dǎo)讀:上次文章中,向大家簡單介紹了真空式和大氣型等離子清洗設(shè)備的輝光放電形式,接下來主要與大家介紹等離子輝光放電的電位分布和光區(qū)分布的相關(guān)內(nèi)容。
等離子清洗設(shè)備輝光放電的一個明顯的特征是,以陰極位降所表征的氣體中電位分布,這個電位分布是因為空間電荷的影響,輝光放電是具有較大的陰極位降。被輝光覆蓋著的并參與放電現(xiàn)象的陰極表面正比于管內(nèi)電流強(qiáng)度,當(dāng)電流發(fā)生變化時,電流密度和陰極位降都保持不變,此時為正常的輝光放電。當(dāng)電流提升到全部陰極表面被輝光覆蓋時,陰極位降隨電流強(qiáng)度及電流密度的提升前開始增大,此時就將進(jìn)入反常輝光放電。

從等離子清洗機(jī)放點空間的光區(qū)分布來看,可分為兩大部分:第1是放電的陰極部分,包括阿斯頓暗區(qū)、陰極輝區(qū)、陰極暗區(qū)、負(fù)輝區(qū)及法拉第暗區(qū);第2部分稱為陽極部分,包括正柱區(qū)、陽極暗區(qū)和陽極輝區(qū)。陰極部分并不具備等離子體的特征,從正柱區(qū)到放電的陽極其他區(qū)域都是處于等離子體狀態(tài)。

在正常等離子清洗機(jī)輝光放電的陰極區(qū),正的凈離子數(shù)密度是常數(shù)。當(dāng)進(jìn)入反常輝光區(qū)時,電流密度的提升造成電場的畸變陰極位降進(jìn)一步提升,陰極位降區(qū)功率損耗越來越大,使陰極上產(chǎn)生濺射。陰極濺射是輝光放電陰極上一個特定過程,如陰極濺射能夠清除陰極表面不同性質(zhì)的粘附層,能夠得到金屬膜粘附在金屬、玻璃、陶瓷、云母等材料上面。
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