等離子表面處理系統(tǒng)的常見問題
文章導(dǎo)讀：首先比如使用低溫等離子設(shè)備有危險(xiǎn)嗎？低溫等離子體設(shè)備工作在高壓環(huán)境中，但設(shè)備在設(shè)計(jì)、生產(chǎn)和使用過程中始終將接地作為最重要的標(biāo)準(zhǔn)，電流很低。無意中接觸到等離子體放電區(qū)域會(huì)引起“針刺”的感覺，但不會(huì)對(duì)人身安全造成危險(xiǎn)。我們通常對(duì)放電區(qū)域進(jìn)行屏蔽，以實(shí)現(xiàn)物理隔離。
首先比如使用低溫等離子設(shè)備有危險(xiǎn)嗎？低溫等離子體設(shè)備工作在高壓環(huán)境中，但設(shè)備在設(shè)計(jì)、生產(chǎn)和使用過程中始終將接地作為最重要的標(biāo)準(zhǔn)，電流很低。無意中接觸到等離子體放電區(qū)域會(huì)引起“針刺”的感覺，但不會(huì)對(duì)人身安全造成危險(xiǎn)。我們通常對(duì)放電區(qū)域進(jìn)行屏蔽，以實(shí)現(xiàn)物理隔離。
那么等離子處理的時(shí)間是否越長(zhǎng)越好?在低溫等離子體處理中聚合物表面的交聯(lián)、化學(xué)改性和蝕刻主要是因?yàn)榈入x子體破壞了聚合物表面分子的鍵，產(chǎn)生了大量的自由基。實(shí)驗(yàn)表明，隨著等離子體處理時(shí)間的延長(zhǎng)和放電功率的增加，自由基生成的強(qiáng)度增大，達(dá)到一定程度后進(jìn)入動(dòng)態(tài)平衡。當(dāng)放電壓力達(dá)到一定值時(shí)，自由基強(qiáng)度出現(xiàn)值，即在一定條件下，低溫等離子體與聚合物表面的反應(yīng)程度最深。因此，低溫等離子體表面處理有一個(gè)合理的時(shí)間，既能達(dá)到最佳的處理效果，又能提高生產(chǎn)效率，降低設(shè)備成本。
另外等離子表面處理系統(tǒng)工作所需要什么條件?低溫等離子設(shè)備的單位功率約為1000W，只需要清潔的壓縮空氣，220V/380V的電源，和排氣裝置——排氣裝置是為了降低廢氣的噪音，避免廢氣的濃度產(chǎn)生類似的煙霧。
那么等離子表面處理系統(tǒng)的生產(chǎn)線速度又能達(dá)到多少？由于不同類型的材料，不同的尺寸，不同的工藝，不同的驗(yàn)收標(biāo)準(zhǔn)，不同的設(shè)備以不同的速度加工不同的產(chǎn)品。不同行業(yè)的經(jīng)驗(yàn)是，手機(jī)按鍵和手機(jī)殼粘接前的表面處理線速度應(yīng)在6米/分鐘以上。密封條涂覆前的表面處理線速度已達(dá)到18m/min以上。密封條植絨前的表面處理線速度，線速度應(yīng)大于8m/min。一個(gè)具體的產(chǎn)品所能達(dá)到的效果，需要通過實(shí)驗(yàn)來獲得。
那么等離子表面處理系統(tǒng)改性過后增加的表面能可以保持多長(zhǎng)時(shí)間？由于材料本身的性質(zhì)、儲(chǔ)存環(huán)境、處理后的二次污染以及化學(xué)反應(yīng)等原因，處理后的表面能保留時(shí)間無法確定。我們建議在低溫等離子體處理達(dá)到較高的表面能后，立即進(jìn)行下一道工序，以避免表面能衰減的影響。我公司能將低溫等離子處理設(shè)備完美地集成到自動(dòng)化流水線中，從而防止二次污染的可能性。
那么等離子表面處理系統(tǒng)的生產(chǎn)線速度又能達(dá)到多少？由于不同類型的材料，不同的尺寸，不同的工藝，不同的驗(yàn)收標(biāo)準(zhǔn)，不同的設(shè)備以不同的速度加工不同的產(chǎn)品。不同行業(yè)的經(jīng)驗(yàn)是，手機(jī)按鍵和手機(jī)殼粘接前的表面處理線速度應(yīng)在6米/分鐘以上。密封條涂覆前的表面處理線速度已達(dá)到18m/min以上。密封條植絨前的表面處理線速度，線速度應(yīng)大于8m/min。一個(gè)具體的產(chǎn)品所能達(dá)到的效果，需要通過實(shí)驗(yàn)來獲得。
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