影響等離子表面處理效果的設(shè)備的工藝參數(shù)有哪些？
文章導(dǎo)讀：影響等離子表面處理效果的因素有很多，大致可以劃分成兩個(gè)部分，分別是反應(yīng)材料的自身特性、等離子設(shè)備的工藝基本參數(shù)。您可能深有體會(huì)的是，同一臺(tái)等離子表面處理設(shè)備，在優(yōu)化處理參數(shù)后，往往能起到事半功倍的效果。
普樂斯的等離子表面處理設(shè)備在多種領(lǐng)域、多類材料上都有應(yīng)用，不同的材料及工藝要求，對(duì)等離子表面處理的效果也會(huì)有所不同，您可能有過了解，等離子表面處理的一個(gè)突出特征就是處理產(chǎn)品的一致性好，即處理一個(gè)產(chǎn)品與處理上萬個(gè)產(chǎn)品，其處理效果并沒有太大的差異，這在一定程度上要?dú)w功在等離子設(shè)備的工藝參數(shù)設(shè)置上。接下來就為大家介紹一下真空型等離子設(shè)備與大氣類等離子設(shè)備的工藝參數(shù)。
一、真空型等離子表面處理設(shè)備的工藝參數(shù)
1. 壓力
真空型等離子設(shè)備的真空度越高，其壓力值越小，此時(shí)等離子濃度越高，處理的效果越好。
2. 功率
功率越高，等離子體即Plasma的能量越高，隨著功率的提高，逐步會(huì)達(dá)到飽和度。
3. 流量
流量越大，去除污染物的速度會(huì)越快，但這也與壓力有關(guān)。
4. 時(shí)間
處理時(shí)間越長，一般來說處理的效果越好。
5. 其他參數(shù)
其他的如產(chǎn)品特性、產(chǎn)品放置、工藝要求、產(chǎn)量要求、均勻性要求、電源頻率要求、腔體結(jié)構(gòu)、工藝氣體選擇也都會(huì)等離子表面處理的效果有一定影響。
二、大氣等離子表面處理設(shè)備的工藝參數(shù)
1. 速度
速度越慢，處理的效果越好，前提要考慮到溫度，一般的速度單位為米/分鐘。
2. 功率
功率越高，能量越高，處理的效果越好，功率也需考慮速度與溫度的影響。
3. 距離
即等離子體育材料表面的距離，一般使用等離子體焰的外焰處理，約為放電部分的1/2~2/3處。
4. 其他參數(shù)
其他的如工藝氣體、電源頻率、氣體壓力值、產(chǎn)品放置形式等，對(duì)處理的效果也有影響。
以上就是對(duì)一些影響等離子表面處理效果的設(shè)備工藝參數(shù)的介紹，如果您對(duì)此還有疑問或想要了解更多等離子表面處理設(shè)備的詳細(xì)內(nèi)容，歡迎點(diǎn)擊普樂斯的在線客服進(jìn)行咨詢，或者直接撥打全國統(tǒng)一服務(wù)熱線400-816-9009，普樂斯恭候您的來電！
1. 壓力
真空型等離子設(shè)備的真空度越高，其壓力值越小，此時(shí)等離子濃度越高，處理的效果越好。
2. 功率
功率越高，等離子體即Plasma的能量越高，隨著功率的提高，逐步會(huì)達(dá)到飽和度。
3. 流量
流量越大，去除污染物的速度會(huì)越快，但這也與壓力有關(guān)。
4. 時(shí)間
處理時(shí)間越長，一般來說處理的效果越好。
5. 其他參數(shù)
其他的如產(chǎn)品特性、產(chǎn)品放置、工藝要求、產(chǎn)量要求、均勻性要求、電源頻率要求、腔體結(jié)構(gòu)、工藝氣體選擇也都會(huì)等離子表面處理的效果有一定影響。
1. 速度
速度越慢，處理的效果越好，前提要考慮到溫度，一般的速度單位為米/分鐘。
2. 功率
功率越高，能量越高，處理的效果越好，功率也需考慮速度與溫度的影響。
3. 距離
即等離子體育材料表面的距離，一般使用等離子體焰的外焰處理，約為放電部分的1/2~2/3處。
4. 其他參數(shù)
其他的如工藝氣體、電源頻率、氣體壓力值、產(chǎn)品放置形式等，對(duì)處理的效果也有影響。
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