普樂斯推薦

• USC干式超聲波除塵設(shè)備 高壓旋風除塵PLS-X系列介紹

  

  產(chǎn)品名稱：USC干式超聲波除塵設(shè)備 高壓旋風除塵PLS-X系列介紹
  1）能有效去除大于3μm的顆粒
  2）不需要高純水和化學藥劑等，同時不需要后續(xù)烘干工藝
  3）設(shè)備維護簡單，只需進行簡單的清洗和更換
  4）沿噴嘴線性均衡的超聲波使得工件橫向清洗性能保持一致
  5）非接觸式的清洗方式避免損壞工
  6）閉環(huán)系統(tǒng)不會破壞生產(chǎn)車間（潔凈室）的氣流平衡

• 小型等離子清洗機 實驗型等離子清洗機 半導體活化刻蝕 pr5L

  

  產(chǎn)品名稱：小型等離子清洗機 實驗型等離子清洗機 半導體活化刻蝕 pr5L
  ‌實驗室等離子清洗機‌是一種利用等離子體技術(shù)進行表面處理的設(shè)備，廣泛應(yīng)用于科研和工業(yè)制造領(lǐng)域。

• 真空等離子清洗機 等離子表面處理機 表面處理改性PM-20LN

  

  產(chǎn)品名稱：真空等離子清洗機 等離子表面處理機 表面處理改性PM-20LN
  真空等離子清洗機作為一種高效、無介質(zhì)的表面處理設(shè)備，具有廣泛的應(yīng)用前景。其工作原理基于等離子體在真空環(huán)境中產(chǎn)生的化學反應(yīng)和物理效應(yīng)，具有高效清洗、無介質(zhì)清洗、可選擇性清洗、表面改性和自動化操作等優(yōu)勢。

• 實驗型等離子清洗機 小型真空等離子處理設(shè)備PLAUX-PR-10L

  

  產(chǎn)品名稱：實驗型等離子清洗機 小型真空等離子處理設(shè)備PLAUX-PR-10L
  

  ‌高效徹底‌：能夠深入微納米級孔隙中，徹底清除難以觸及的污染物。

  ‌環(huán)保節(jié)能‌：無需使用化學溶劑，減少廢水廢氣排放，符合綠色生產(chǎn)要求，且能耗低。

  ‌廣泛適用‌：適用于多種材料表面，包括金屬、陶瓷、玻璃、塑料等，不會對材料性能產(chǎn)生負面影響。

  ‌工藝可控‌：通過調(diào)整工作氣體種類、壓力、功率等參數(shù)，可精確控制清洗過程‌。

  
  

• 普樂斯非接觸式除塵設(shè)備 usc干式除塵設(shè)備pls-c系列

  

  產(chǎn)品名稱：普樂斯非接觸式除塵設(shè)備 usc干式除塵設(shè)備pls-c系列
  在材料及產(chǎn)品生產(chǎn)、加工、轉(zhuǎn)運的過程中，材料表面由于存在靜電，表面會自帶或吸附微塵，影響成品質(zhì)量。隨著各行業(yè)表面潔 凈度要求不斷提高，對微小雜質(zhì)和粉塵的去除愈加重要。非接觸表面清潔有無接觸、設(shè)備小、成本低、耗材少、易實施等優(yōu)點，近年 來在各個行業(yè)均有較快的發(fā)展。
  

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