等離子清洗機是如何達到清洗的效果
文章導讀：等離子清洗機在現在的工業(yè)生產中起到很重要的作用，現在等離子清洗機在很多企業(yè)中都是不可缺少的清洗設備。等離子清洗不需要添加任何溶劑，且無有害物質產生，也通常被叫做環(huán)保型的干式清洗，那么等離子清洗機是如何達到清洗的效果呢？
等離子清洗機原理：通過化學或物理作用對工件表面進行處理，實現分子水平的污染物去除（一般厚度為幾個～幾十個nm）。被清除的污染物可能為有機物、環(huán)氧樹脂、光刻膠、氧化物、微顆粒污染物等。對應不同的污染物，應采用不同的清洗工藝。按照清洗原理可以分為：物理清洗和化學清洗。
物理清洗：表面作用以物理反應為主的等離子體清洗，也叫濺射腐蝕（SPE）。我們以Ar來說明等離子清洗機的化學反應。
例：Ar＋e- →Ar＋＋2e- Ar＋＋沾污→揮發(fā)性沾污
Ar＋在自偏壓或外加偏壓作用下被加速產生動能，然后轟擊在放在負電極上的被清洗工件表面，工件表面的污染物被轟擊后，游離在腔體內部，然后經過真空泵抽出腔體外部。一般用于去除氧化物、環(huán)氧樹脂溢出或是微顆粒污染物。
例：Ar＋e- →Ar＋＋2e- Ar＋＋沾污→揮發(fā)性沾污
Ar＋在自偏壓或外加偏壓作用下被加速產生動能，然后轟擊在放在負電極上的被清洗工件表面，工件表面的污染物被轟擊后，游離在腔體內部，然后經過真空泵抽出腔體外部。一般用于去除氧化物、環(huán)氧樹脂溢出或是微顆粒污染物。
化學清洗:表面作用以化學反應為主的等離子體清洗，又稱PE。
例1：O2＋e- →2O*＋e- O*＋有機物→CO2＋H2O
從反應式可見，氧等離子體通過化學反應可使非揮發(fā)性有機物變成易揮發(fā)的H2O和CO2。
例2：H2＋e- →2H*＋e- H*＋非揮發(fā)性金屬氧化物→金屬＋H2O
從反應式可見，氫等離子體通過化學反應可以去除金屬表面氧化層，通常用于清潔金屬表面，在清洗過程中避免金屬氧化。
例1：O2＋e- →2O*＋e- O*＋有機物→CO2＋H2O
從反應式可見，氧等離子體通過化學反應可使非揮發(fā)性有機物變成易揮發(fā)的H2O和CO2。
例2：H2＋e- →2H*＋e- H*＋非揮發(fā)性金屬氧化物→金屬＋H2O
從反應式可見，氫等離子體通過化學反應可以去除金屬表面氧化層，通常用于清潔金屬表面，在清洗過程中避免金屬氧化。
在正常的清洗過程中物理清洗與化學清洗時同時存在的，可以根據具體要求選擇不同的工藝氣體。
普樂斯電子9年專注研制等離子清洗機，等離子表面處理設備，已通過ISO9001質量體系和歐盟CE認證，為電子、半導體、汽車、yi療等領域的客戶提供清洗，活化，刻蝕，涂覆的等離子表面處理解決方案。如果您想要了解更多關于產品的詳細內容或在設備使用中有疑問，歡迎點擊普樂斯的在線客服進行咨詢，或者直接撥打全國統(tǒng)一服務熱線400-816-9009，普樂斯恭候您的來電！
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