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普樂斯15年專注等離子清洗機(jī)研制低溫等離子表面處理系統(tǒng)方案解決商

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熱門關(guān)鍵字:應(yīng)用方案 大氣等離子清洗機(jī) 真空等離子清洗機(jī) 等離子清洗機(jī)廠家

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普樂斯自主的半導(dǎo)體專用等離子清洗機(jī)有何發(fā)展?選擇普樂斯靠譜嗎?

返回列表 來源:普樂斯 瀏覽: 發(fā)布日期:2020-12-17 14:24【
文章導(dǎo)讀:半導(dǎo)體行業(yè)科學(xué)技術(shù)水平含量很高,近年來更是屢屢提及,大環(huán)境的變化,半導(dǎo)體行業(yè)技術(shù)與設(shè)備的獨(dú)立自主化發(fā)展更是迫切提上日程,國產(chǎn)等離子清洗機(jī)便是國產(chǎn)半導(dǎo)體設(shè)備的一種,接下來將為大家簡單介紹普樂斯的國產(chǎn)等離子清洗機(jī)設(shè)備是在半導(dǎo)體行業(yè)有哪些發(fā)展,是如何“摸爬滾打”的。
       半導(dǎo)體行業(yè)科學(xué)技術(shù)水平含量很高,近年來更是屢屢提及,大環(huán)境的變化,半導(dǎo)體行業(yè)技術(shù)與設(shè)備的獨(dú)立自主化發(fā)展更是迫切提上日程,國產(chǎn)等離子清洗機(jī)便是國產(chǎn)半導(dǎo)體設(shè)備的一種,接下來將為大家簡單介紹普樂斯的國產(chǎn)等離子清洗機(jī)設(shè)備是在半導(dǎo)體行業(yè)有哪些發(fā)展,是如何“摸爬滾打”的。
【普樂斯】等離子清洗機(jī)設(shè)備
一、普樂斯國產(chǎn)等離子清洗機(jī)設(shè)備起步時(shí)艱難與驚喜
       普樂斯自成立始便將目光放在包括半導(dǎo)體制造在內(nèi)的重點(diǎn)領(lǐng)域,成立次年便與國內(nèi)知名晶圓封裝企業(yè)合作?,F(xiàn)在還記得,那時(shí)國產(chǎn)技術(shù)積累并不成熟、品牌認(rèn)可度不足、使用國產(chǎn)半導(dǎo)體設(shè)備存在一定風(fēng)險(xiǎn),普樂斯的國產(chǎn)等離子清洗機(jī)設(shè)備僅能參與去除晶圓表面污染物的晶圓清洗環(huán)節(jié)中去,從此開啟了普樂斯的半導(dǎo)體征程,開端是艱辛但驚喜的。
二、普樂斯國產(chǎn)等離子清洗機(jī)設(shè)備穩(wěn)健發(fā)展、再獲客戶信任
       進(jìn)口等離子清洗機(jī)設(shè)備費(fèi)用高、服務(wù)響應(yīng)慢,再結(jié)合普樂斯國產(chǎn)等離子清洗機(jī)設(shè)備在多家客戶實(shí)地運(yùn)行的表現(xiàn),普樂斯得以在老客戶擴(kuò)產(chǎn)時(shí)再次使用普樂斯的國產(chǎn)等離子清洗機(jī),涉及到更多的生產(chǎn)工藝中,從前段的硅片清洗到后段的光刻膠殘留去除,普樂斯國產(chǎn)等離子清洗機(jī)開始參與到芯片制造的諸多流程,國產(chǎn)半導(dǎo)體設(shè)備認(rèn)可度逐漸提升,普樂斯也在國產(chǎn)等離子清洗機(jī)的生產(chǎn)研發(fā)進(jìn)程中,將步伐逐漸走實(shí)走穩(wěn)。
【普樂斯】等離子清洗機(jī)可用于晶圓處理
三、半導(dǎo)體行業(yè)的深耕發(fā)展及更多行業(yè)認(rèn)可的聲音
       普樂斯之后又與更多芯片制造企業(yè)達(dá)成合作。國產(chǎn)等離子表面處理設(shè)備被應(yīng)用到諸多半導(dǎo)體分立器件、電力電子元器件等的生產(chǎn)中,從先前的基礎(chǔ)晶圓清洗,到晶圓表面較厚光刻膠的去除中,都逐漸使用了普樂斯的等離子處理設(shè)備,客戶的反饋也從剛接觸時(shí)表現(xiàn)的不信任,到對(duì)普樂斯等離子表面處理設(shè)備效果的贊揚(yáng)。
四、關(guān)于普樂斯品牌國產(chǎn)等離子清洗機(jī)的未來發(fā)展
       關(guān)于未來發(fā)展,普樂斯會(huì)在鞏固和完善當(dāng)前工藝技術(shù)的同時(shí),聚焦RFMEMS芯片殘余的光刻膠去除等行業(yè)熱點(diǎn)難點(diǎn)問題,提供相應(yīng)的等離子表面處理技術(shù)與服務(wù),為國產(chǎn)等離子清洗機(jī)補(bǔ)齊短板、助力“中國芯”產(chǎn)業(yè)發(fā)展。
       普樂斯從2011年開始涉足半導(dǎo)體行業(yè)至今已有9年,專注研制等離子清洗機(jī),等離子體清洗機(jī),等離子清洗設(shè)備,常壓大氣和低壓真空型低溫等離子表面處理設(shè)備,在光刻膠去除、打線即W/B前清洗和塑封即Molding前活化等工藝方面積累了較為豐富的等離子表面處理經(jīng)驗(yàn),合作客戶接近20家,我們正努力成為半導(dǎo)體封裝領(lǐng)域的等離子表面處理工藝解決方案服務(wù)商。是行業(yè)內(nèi)值得信賴的等離子清洗機(jī)廠家。等離子表面處理過的樣品包括:硅晶圓、玻璃基板、陶瓷基板、IC載板、銅引線框架等。如果您想要了解更多關(guān)于產(chǎn)品的詳細(xì)內(nèi)容或在設(shè)備使用中有疑問,歡迎點(diǎn)擊普樂斯的在線客服進(jìn)行咨詢,或者直接撥打全國統(tǒng)一服務(wù)熱線400-816-9009,普樂斯恭候您的來電! 

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    1)能有效去除大于3μm的顆粒
    2)不需要高純水和化學(xué)藥劑等,同時(shí)不需要后續(xù)烘干工藝
    3)設(shè)備維護(hù)簡單,只需進(jìn)行簡單的清洗和更換
    4)沿噴嘴線性均衡的超聲波使得工件橫向清洗性能保持一致
    5)非接觸式的清洗方式避免損壞工
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    真空等離子清洗機(jī)作為一種高效、無介質(zhì)的表面處理設(shè)備,具有廣泛的應(yīng)用前景。其工作原理基于等離子體在真空環(huán)境中產(chǎn)生的化學(xué)反應(yīng)和物理效應(yīng),具有高效清洗、無介質(zhì)清洗、可選擇性清洗、表面改性和自動(dòng)化操作等優(yōu)勢(shì)。

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    ‌高效徹底‌:能夠深入微納米級(jí)孔隙中,徹底清除難以觸及的污染物。

    ‌環(huán)保節(jié)能‌:無需使用化學(xué)溶劑,減少廢水廢氣排放,符合綠色生產(chǎn)要求,且能耗低。

    ‌廣泛適用‌:適用于多種材料表面,包括金屬、陶瓷、玻璃、塑料等,不會(huì)對(duì)材料性能產(chǎn)生負(fù)面影響。

    ‌工藝可控‌:通過調(diào)整工作氣體種類、壓力、功率等參數(shù),可精確控制清洗過程‌。


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    在材料及產(chǎn)品生產(chǎn)、加工、轉(zhuǎn)運(yùn)的過程中,材料表面由于存在靜電,表面會(huì)自帶或吸附微塵,影響成品質(zhì)量。隨著各行業(yè)表面潔 凈度要求不斷提高,對(duì)微小雜質(zhì)和粉塵的去除愈加重要。非接觸表面清潔有無接觸、設(shè)備小、成本低、耗材少、易實(shí)施等優(yōu)點(diǎn),近年 來在各個(gè)行業(yè)均有較快的發(fā)展。

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