等離子清洗設(shè)備的這兩項(xiàng)化學(xué)反應(yīng)該如何理解？有哪些實(shí)際應(yīng)用？
文章導(dǎo)讀：使用等離子清洗設(shè)備對固體類材料進(jìn)行表面處理時(shí)，通常會(huì)包含物理和化學(xué)反應(yīng)，而化學(xué)反應(yīng)主要包含4種類型，在昨天的文章中向大家介紹了其中兩種，那么剩下的兩種化學(xué)反應(yīng)該如何理解？又會(huì)有哪些具體的實(shí)際應(yīng)用呢？
鑒于化學(xué)反應(yīng)方程式解釋起來較為方便且直觀，普樂斯接下來將還會(huì)通過等離子清洗設(shè)備表面處理過程的反應(yīng)方程式向大家作一說明。下述的反應(yīng)式中大寫字母A、B、C、D、M分別代表不同的物質(zhì)；小寫字母s、g則分別代表物質(zhì)固體形態(tài)和氣體形態(tài)。
一、化學(xué)反應(yīng)式為A（g）+B（g）→C（s）+D（g）等離子表面處理過程
等離子清洗機(jī)的這一類型的等離子清洗設(shè)備的化學(xué)反應(yīng)，通常會(huì)有兩種以上的反應(yīng)氣體參與，產(chǎn)生的等離子體會(huì)與固體材料發(fā)生化學(xué)反應(yīng)，這一類的具體工藝應(yīng)用包括等離子增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積即PECVD、等離子濺射和等離子體聚合。
1.等離子清洗設(shè)備的PECVD工藝
PECVD等離子增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積通常是將兩種或兩種以上的工藝氣體在等離子體狀態(tài)下反應(yīng)，生成新的固體物質(zhì)，在材料基板上形成一層薄膜物質(zhì)，這項(xiàng)工藝目前已在光學(xué)膜的制備等方面都有廣泛應(yīng)用。
2.等離子清洗設(shè)備的濺射工藝
等離子濺射同樣也是使用兩種及以上的氣體電離成等離子體進(jìn)行反應(yīng)，不同的是，其中一種反應(yīng)物種先借助荷能粒子從靶材上濺射下來，然后再經(jīng)過反應(yīng)生成薄膜，屬于濺射制膜的范疇。
3.等離子清洗設(shè)備的等離子聚合工藝
關(guān)于等離子清洗機(jī)的聚合工藝，其實(shí)就是反應(yīng)物為有機(jī)單體所發(fā)生的等離子體反應(yīng)。
二、化學(xué)反應(yīng)式為A（g）+B（g）+M（s）→AB（g）+M的等離子表面處理工藝
這一類型的反應(yīng)工藝表示的是固體材料M的表面主要起催化作用，能夠促進(jìn)氣體分子的離解和復(fù)合等。關(guān)于這種等離子體反應(yīng)，通常應(yīng)用于特殊氣體制備領(lǐng)域。
普樂斯電子10年專注研制等離子清洗機(jī)，等離子體清洗機(jī)，等離子清洗設(shè)備，常壓大氣和低壓真空型低溫等離子表面處理設(shè)備，大氣低溫等離子體表面處理系統(tǒng)，大氣常壓收放卷等離子表面處理設(shè)備，已通過ISO9001質(zhì)量體系和歐盟CE認(rèn)證，為電子、半導(dǎo)體、汽車、yi療等領(lǐng)域的客戶提供清洗，活化，刻蝕，涂覆的等離子表面處理解決方案，是行業(yè)內(nèi)值得信賴的等離子清洗機(jī)廠家。如果您想要了解更多關(guān)于產(chǎn)品的詳細(xì)內(nèi)容或在設(shè)備使用中有疑問，歡迎點(diǎn)擊普樂斯的在線客服進(jìn)行咨詢，或者直接撥打全國統(tǒng)一服務(wù)熱線400-816-9009，普樂斯恭候您的來電！
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