晶圓清洗應(yīng)該使用什么樣的等離子清洗機(jī)？
文章導(dǎo)讀：晶圓（Wafer）清洗分為濕法清洗和干法清洗兩種方式，等離子清洗屬于后者，主要是去除晶圓表面肉眼看不到的表面污染物。晶圓的干式清洗應(yīng)該使用什么樣的等離子清洗機(jī)呢？
等離子清洗機(jī)對(duì)晶圓清洗的流程就是先將晶圓放入等離子清洗機(jī)的真空反應(yīng)腔體內(nèi)，然后抽取真空，達(dá)到一定真空度后通入反應(yīng)氣體，這些反應(yīng)氣體被電離形成等離子體與晶片表面發(fā)生化學(xué)和物理反應(yīng)，生成可揮發(fā)性物質(zhì)被抽走，清潔晶圓表面并使之具有親水性。那么晶圓清洗所用的等離子清洗機(jī)在選擇時(shí)有哪些該注意的地方呢？
一、腔體和托架要求
等離子清洗晶圓是在千級(jí)以上的無(wú)塵室中進(jìn)行的，對(duì)particle的要求極高，任何超標(biāo)的particle存在，都會(huì)造成晶圓不可挽回的缺陷。所以設(shè)計(jì)等離子清洗機(jī)的腔體首先一定要是鋁質(zhì)，而不是不銹鋼材質(zhì)；擺放晶圓的托架滑動(dòng)部分，要盡量采用不容易產(chǎn)生粉塵和被等離子腐蝕的材料；電極和托架方便拆卸，便于日常維護(hù)。
二、電極間距和層數(shù)，以及氣路分布要求
等離子清洗機(jī)反應(yīng)腔體內(nèi)的電極間距和層數(shù)，以及氣路分布，對(duì)于晶圓處理的均勻性都重大的影響，這些指標(biāo)都需要不斷試驗(yàn)來(lái)優(yōu)化。
三、電極板溫度要求
等離子清洗晶圓的過(guò)程中，會(huì)產(chǎn)生一定的熱量累積，處于工藝的需要，維持電極板的溫度在一定范圍是必要的，所以通常會(huì)給等離子清洗機(jī)的電極加上水冷。
等離子清洗晶圓是在千級(jí)以上的無(wú)塵室中進(jìn)行的，對(duì)particle的要求極高，任何超標(biāo)的particle存在，都會(huì)造成晶圓不可挽回的缺陷。所以設(shè)計(jì)等離子清洗機(jī)的腔體首先一定要是鋁質(zhì)，而不是不銹鋼材質(zhì)；擺放晶圓的托架滑動(dòng)部分，要盡量采用不容易產(chǎn)生粉塵和被等離子腐蝕的材料；電極和托架方便拆卸，便于日常維護(hù)。
二、電極間距和層數(shù)，以及氣路分布要求
等離子清洗機(jī)反應(yīng)腔體內(nèi)的電極間距和層數(shù)，以及氣路分布，對(duì)于晶圓處理的均勻性都重大的影響，這些指標(biāo)都需要不斷試驗(yàn)來(lái)優(yōu)化。
三、電極板溫度要求
等離子清洗晶圓的過(guò)程中，會(huì)產(chǎn)生一定的熱量累積，處于工藝的需要，維持電極板的溫度在一定范圍是必要的，所以通常會(huì)給等離子清洗機(jī)的電極加上水冷。
四、擺放小技巧
多層電極的等離子清洗機(jī)產(chǎn)能比較高，可以根據(jù)需要每一層托架上擺放多片晶圓，比較適合于半導(dǎo)體分立器件、電力電子元器件專(zhuān)用4寸及6寸晶圓的光刻底膜去除等。
親，如果您對(duì)等離子清洗機(jī)感興趣或者想了解更多詳細(xì)信息，歡迎點(diǎn)擊普樂(lè)斯的在線客服進(jìn)行咨詢，或者直接撥打全國(guó)統(tǒng)一服務(wù)熱線400-816-9009，普樂(lè)斯恭候您的來(lái)電！
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