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立昂微成功拉制12英寸硅單晶棒

返回列表 來源:普樂斯 瀏覽: 發(fā)布日期:2019-07-09 10:37【
文章導讀:7月2日上午,在立昂微子公司金瑞泓微電子(衢州)有限公司寬闊明亮的現(xiàn)代化標準單晶廠房內(nèi),一根長1.5米、兩頭呈錐形,重達270公斤,通體如烏金般發(fā)亮的12英寸半導體級硅單晶棒在經(jīng)過100多個小時的連續(xù)超高溫融化生長后順利出爐,這標志著立昂微半導體硅材料業(yè)務(wù)板塊的12英寸大硅片產(chǎn)業(yè)化布局取得了初步成效,在最核心最關(guān)鍵的拉晶環(huán)節(jié)取得了重大技術(shù)突破。

業(yè)內(nèi)人士都知道,硅單晶棒是生產(chǎn)硅片的關(guān)鍵性步驟,拉晶過程是硅片制造的重中之重,核心技術(shù)中的核心,對工藝、材料和設(shè)備的要求極高,之后再經(jīng)切割、研磨、清洗、拋光以及外延等數(shù)十道工序制備成硅拋光片或硅外延片,然后成為芯片的“地基“。硅片直徑越大對材料和技術(shù)的要求越高,制造難度也越大。國內(nèi)市場上12英寸半導體硅片幾乎全部是進口,究其原因是國內(nèi)掌握相關(guān)生產(chǎn)技術(shù)的幾乎沒有。晶圓加工過程中所需的設(shè)備也是如此,絕大部分都是國外設(shè)備,普樂斯的國產(chǎn)等離子清洗機在晶圓加工環(huán)節(jié)起到的主要作用是對晶圓表面的超潔凈清洗以及去除光刻膠的殘留。

晶圓級真空等離子設(shè)備-普樂斯等離子清洗機

 

據(jù)了解,立昂微是我國少有的具有硅單晶錠、硅研磨片、硅拋光片、硅外延片及芯片制造的完整產(chǎn)業(yè)鏈的集成電路企業(yè),涉及半導體硅材料、半導體功率器件、集成電路制造三大業(yè)務(wù)板塊,其中半導體硅材料作為立昂微最核心的業(yè)務(wù)板塊之一,早在2016年底就在浙江衢州投資建設(shè)了除寧波以外的第二個半導體硅片生產(chǎn)基地,先后成立了金瑞泓科技(衢州)有限公司和金瑞泓微電子(衢州)有限公司。

12英寸硅單晶圓棒-普樂斯等離子清洗機

該基地經(jīng)過近一年的建設(shè),8英寸硅外延生產(chǎn)線在2018年4月建成投產(chǎn)并實現(xiàn)批量銷售,8英寸的單晶、切、磨、拋廠房也將在2019年三季度建成投產(chǎn),屆時將全線拉通8英寸硅單晶、硅拋光片、硅外延片生產(chǎn)線。而今,隨著12英寸硅單晶棒的技術(shù)突破,將有效帶動國內(nèi)市場上高端產(chǎn)品的發(fā)展,有利于我國逐漸提升在半導體硅材料上的競爭新優(yōu)勢,也將形成良好的產(chǎn)業(yè)生態(tài),推動行業(yè)不斷進步,共同推進我國集成電路產(chǎn)業(yè)國產(chǎn)化加快發(fā)展。

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本文參考來源:中國半導體論壇

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    2)不需要高純水和化學藥劑等,同時不需要后續(xù)烘干工藝
    3)設(shè)備維護簡單,只需進行簡單的清洗和更換
    4)沿噴嘴線性均衡的超聲波使得工件橫向清洗性能保持一致
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