真空等離子處理系統(tǒng)的均勻性和腔體容積和進氣方式有何關(guān)系？
文章導(dǎo)讀：隨著產(chǎn)品的科技化、精細化工藝要求的發(fā)展，某些產(chǎn)品在進行等離子處理中，對真空等離子處理系統(tǒng)的均勻性提出了更高的要求，其實影響真空等離子處理設(shè)備的因素眾多，如腔體大小、進氣方式、電極結(jié)構(gòu)、電源頻率、氣體流量、功率大小等，任一因素的變化都會對等離子處理的均勻性產(chǎn)生較大的影響，今天普樂斯先向大家介紹一下腔體大小和進氣方式對等離子處理均勻性的影響的相關(guān)內(nèi)容。
隨著產(chǎn)品的科技化、精細化工藝要求的發(fā)展，某些產(chǎn)品在進行等離子處理中，對真空等離子處理系統(tǒng)的均勻性提出了更高的要求，其實影響真空等離子處理設(shè)備的因素眾多，如腔體大小、進氣方式、電極結(jié)構(gòu)、電源頻率、氣體流量、功率大小等，任一因素的變化都會對等離子處理的均勻性產(chǎn)生較大的影響，今天普樂斯先向大家介紹一下腔體大小和進氣方式對等離子處理均勻性的影響的相關(guān)內(nèi)容。
一、真空等離子處理系統(tǒng)的腔體容積越大，處理的均勻性越難掌握
真空等離子處理系統(tǒng)的真空腔體容積越大，越難掌握其均勻性，相應(yīng)的，在對電源的選擇上要格外慎重。當(dāng)對產(chǎn)品的均勻性要求較高，且腔體容積要求較大時，我們通常要根據(jù)所處理的產(chǎn)品規(guī)格、要求、產(chǎn)量、容積等多方面因素，進行產(chǎn)品定制。定制型真空等離子清洗機也需要以事實作為依據(jù)，腔體越大所需的RF電源功率就越大，因此如等離子發(fā)生器只選用13.56MHz的RF電源時，為保證均勻性，腔體容積通常會控制在600L以內(nèi)。
如果需使用3000W及以上功率，普樂斯會建議搭配美國AE、MKS或其他進口的RF電源，雖然在成本費用上會相對較高，設(shè)備運行時更加穩(wěn)定可靠且均勻性有保障。如果處理的產(chǎn)品對均勻性要求很高，建議使用40KHz的中頻電源或?qū)⒄婵涨惑w控制在100L以內(nèi)。
二、前進后排的進出氣方式對改善均勻性有幫助
普樂斯經(jīng)多次對真空等離子處理系統(tǒng)的研究發(fā)現(xiàn)，使用前進氣后排氣的方法，對處理的均勻性相對較好。我們在腔體內(nèi)的進氣管的選擇上基本采用鋁管，將鋁管彎折并焊接成類似方形結(jié)構(gòu)，與此同時在在鋁管上開孔，開孔位置以兩層電極板中間位置為佳，這樣可保證腔體內(nèi)每層處理空間都有獨立的進氣口。如下圖所示：
此外，在針對一些腔體容積較大的設(shè)備時，其進氣結(jié)構(gòu)需要進行一些改動和調(diào)整，當(dāng)然這些改動和調(diào)整需要根據(jù)腔體的具體大小和結(jié)構(gòu)來決定，以下所示的是其中一種結(jié)構(gòu)：
以上關(guān)于真空等離子處理系統(tǒng)的均勻性和腔體容積和進氣方式之間關(guān)聯(lián)性的相關(guān)內(nèi)容。普樂斯電子9年專注研制等離子清洗機，等離子表面處理設(shè)備，已通過ISO9001質(zhì)量體系和歐盟CE認證，為電子、半導(dǎo)體、汽車、yi療等領(lǐng)域的客戶提供清洗，活化，刻蝕，涂覆的等離子表面處理解決方案，是行業(yè)內(nèi)值得信賴的等離子清洗機廠家。如果您想要了解更多關(guān)于產(chǎn)品的詳細內(nèi)容或在設(shè)備使用中有疑問，歡迎點擊普樂斯的在線客服進行咨詢，或者直接撥打全國統(tǒng)一服務(wù)熱線400-816-9009，普樂斯恭候您的來電！
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